Method for Producing Passivation Layers with Point Contacts for Thin-Film Solar Cells

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This invention describes a method for creating passivation layers with point contacts for thin-film solar cells. The method forms a porous dielectric layer using spray pyrolysis or spin-coating, then grows conductive metal oxide nanorods within the pores via electrodeposition. These nanorods protrude from one side of the layer to improve electrical contact, while remaining flush on the opposite side.

Use CasesContent extracted from patent full text and abstract with AI.

• Manufacturing advanced thin-film solar cells with improved efficiency
• Fabricating solar panels for residential, commercial, or industrial use
• Enhancing passivation techniques in semiconductor device manufacturing
• Deploying high-performance photovoltaic modules in energy systems

BenefitsContent extracted from patent full text and abstract with AI.

• Improved efficiency of thin-film solar cells by minimizing energy loss at contact points
• Enhanced electrical connectivity through controlled, nanoscale point contacts
• Potentially lower production costs due to scalable fabrication methods like spray pyrolysis and spin-coating
• Better surface passivation, reducing electron-hole recombination losses and increasing solar cell lifespan

Technical Classifications (CPCs)

Inventors & Applicants

Patent Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Passivierungsschicht mit Punktkontakten für Dünnschichtsolarzellen. Zunächst wird zur Herstellung einer porösen dielektrischen Schicht einer Dicke von 1 nm bis 50 nm die Spraypyrolyse oder Rotationsbeschichtung eingesetzt. In die Poren der porösen Schicht werden Nanostäbchen aus einem leitfähigen Metalloxid mit Elektrodeposition eingewachsen und ragen bei einer Länge von der Schichtdicke der porösen Schicht bis zu 1000 nm aus der Schicht auf einer Seite hinaus und schließen auf ihrer Rückseite bündig mit dieser ab.