Method and Apparatus for Generating a Cold Plasma with First and Second Chamber

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This invention describes a method and apparatus for generating a cold plasma (non-thermal plasma) using a system with a first and a second chamber. A specific sequence of gas mixtures is ionized and processed in these two chambers, resulting in a cold plasma that contains reactive nitrogen oxides. The process allows for the generation of nitrogen oxide-based plasmas at room temperature, overcoming the technical challenges and inefficiencies of traditional high-temperature plasma systems.

Use CasesContent extracted from patent full text and abstract with AI.

• Treatment of biological surfaces, especially for wound healing, burns, abrasions, and medical therapies (plasma medicine)
• Sterilization and decontamination of medical devices or surfaces
• Functionalization and activation of sensitive technical surfaces and materials, especially those that cannot tolerate heat (e.g., plastics, biomedical devices)
• Generation of specific chemical species in gases or liquids for chemical processing
• Cosmetic treatments (disinfection, skin rejuvenation, anti-wrinkle therapies)
• Control of surface properties in material science and microfabrication

BenefitsContent extracted from patent full text and abstract with AI.

• Enables the generation of cold nitrogen oxide plasmas at atmospheric pressure and room temperature, making it suitable for heat-sensitive applications
• Improved energy efficiency compared to conventional hot-plasma systems, as there is no need for extensive cooling
• Flexibility in plasma chemistry by controlling gas mixtures, allowing tailored production of desired reactive species
• Enhanced safety and suitability for medical and biological uses due to low temperatures
• Potential for switching between oxygen-based and nitrogen-based plasma operation during use for broader applicability
• Precise control of plasma process via a dedicated control unit, enabling reproducibility and automation

Technical Classifications (CPCs)

Inventors & Applicants

Patent Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben einer Plasmavorrichtung mit einer ersten Kammer und einer zweiten Kammer, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist, nämlich ein Einleiten eines ersten Gasgemisches in die erste Kammer, ein Ionisieren des ersten Gasgemisches in der ersten Kammer zum Erzeugen eines ersten kalten Plasmas oder eines zweiten Gasgemisches, ein Einleiten des in der ersten Kammer erzeugten ersten kalten Plasmas oder zweiten Gasgemisches und eines dritten, vom ersten Gasgemisch verschiedenen Gasgemisches in die zweite Kammer, so dass sich in der zweiten Kammer das dritte Gasgemisch mit dem ersten kalten Plasma oder dem zweiten Gasgemisch mischen und zu einem vierten, reaktiven Stickoxid enthaltenden Gasgemisch reagieren, Darüberhinaus betrifft die Erfindung eine Plasmavorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas und eine Steuereinheit.