Process for the Electrolytic Production of High-Purity Copper with Very Low Sulfur Contents
Simple SummaryContent extracted from patent full text and abstract with AI.
This patent describes a process for producing highly pure copper with very low sulfur content using electrolysis. The method involves adding specific additives, such as amidino-thiourea (guanyl-thiourea) and/or cysteine, to the electrolyte solution along with glue or gelatin. These additives help to achieve smooth and uniform copper deposition, even at higher current densities, resulting in ultra-pure cathodic copper with reduced sulfur levels.
Use CasesContent extracted from patent full text and abstract with AI.
- Manufacturing of high-purity copper for electronics and semiconductor industries
- Production of copper for high-efficiency power transmission and electrical wiring
- Application in industries requiring copper with low sulfur impurities, such as aerospace and medical devices
- Copper refining plants aiming to improve product purity and quality
BenefitsContent extracted from patent full text and abstract with AI.
- Enables the production of copper with extremely low sulfur content, increasing its quality for high-tech applications
- Achieves smooth and uniform copper deposition, improving the physical and electrical properties of the final product
- Works effectively even at higher current densities, enhancing the efficiency and throughput of the electrolysis process
- Simple implementation in existing copper electrolysis and refining systems with minimal modifications
Technical Classifications (CPCs)
Main Classifications
Chemistry & Materials Science
Sub Classifications
Electrolytic & Electrophoretic Processes
CPC Codes
Inventors & Applicants
Applicants
Tech Universität Bergakademie Freiberg
Patent Abstract
Die Erfindung kann in Kupferraffinationselektrolysen und Kupfergewinnungselektrolysen zur Anwendung gelangen, bei denen mit Zusätzen im Elektrolyten gearbeitet wird, die für eine glatte und gleichmäßige Abscheidung des Kupfers sorgen sollen. Der Erfindung liegt die technische Aufgabe zugrunde, für die Kupferelektrolyse Zusätze zu finden, mit denen ein hochreines Kathodenkupfer mit sehr niedrigen Schwefelgehalten erzeugt werden kann und die auch noch bei höheren Stromdichten optimal wirken. Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, dass der Elektrolytlösung neben Leim oder Gelatine Amidino-Thioharnstoff (Guanyl-Thioharnstoff) und/oder Cystein zugesetzt wird. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren werden auch bei höheren Stromdichten sehr glatte Kathoden mit überraschend niedrigen Schwefelgehalten erzeugt.
Key Information
Publication No.
DE102014005755A1
Family ID
54249768
Publication Date
2015-10-22
Application No.
DE102014005755A
Application Date
2014-04-17
Priority Date
2014-04-17
Granted
Yes (1/2)
Possible Cooperation
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