Ruthenium Precursors for Deposition of Ruthenium Layers, Preparation and Use

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This invention introduces new ruthenium precursors—chemical compounds used to deposit thin layers of ruthenium or ruthenium-containing materials through a process called vapor deposition. The patent details the composition of these precursors and provides methods for their synthesis and application in creating high-quality ruthenium coatings.

Use CasesContent extracted from patent full text and abstract with AI.

• Production of thin ruthenium films for semiconductor devices
• Manufacturing of microelectronic components requiring ruthenium layers
• Surface coating of materials in automotive or aerospace industries
• Development of catalytic layers in chemical processing equipment
• Creation of efficient electrical contacts or electrodes

BenefitsContent extracted from patent full text and abstract with AI.

• Enables precise and uniform deposition of ruthenium layers
• Offers new chemical compositions for better performance and stability during deposition
• Potential for improved coating quality in advanced manufacturing
• Supports miniaturization of electronic components
• Can enhance durability and efficiency of coated devices

Technical Classifications (CPCs)

Inventors & Applicants

Patent Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft neue Ruthenium-Precursoren zur Abscheidung von Rutheniumschichten, deren Herstellung und ein Verfahren für die Abscheidung dünner Rutheniumschichten oder Ruthenium-enthaltender Schichten mittels Gasphasenabscheidung. Die erfindungsgemäßen Ruthenium-Precursoren zur Abscheidung von Rutheniumschichten, enthalten Verbindungen der allgemeinen Formel Ru(CO)2L2(O2CR1)(O2CR2) wobei Liganden L gleiche oder verschiedene Zweielektronenpaardonatoren sind, ausgewählt aus Phosphan, Phosphit, Arsan und/oder Amin der allgemeinen Formel E(R3R4R5) mit E = Phosphor, Arsen oder Stickstoff und R3, R4 und R5 gleich oder verschieden, ausgewählt aus Alkyl-, Aryl-Rest und/oder OR6 mit R6 = Alkyl- und/oder Aryl-Rest, wobei O2CR1 und O2CR2 gleiche oder verschiedene Carboxylate sind und wobei die Rest R1 und R2 unabhängig voneinander ein gegebenenfalls substituierter, verzweigter, unverzweigter oder zyklischer Alkyl- oder Aryl-Rest oder H sind und wobei CO Carbonyle sind.