Method for Producing an Optical Waveguide, an Optical Waveguide Produced by this Method, and a Medical Implant with such an Optical Waveguide

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This invention is a process for manufacturing an optical waveguide using the material combination PMMA/SU8/PMMA, enabling lateral periodic structures smaller than 50 micrometers. The resulting optical waveguide is highly mechanically flexible, allowing bending radii of less than 1 mm, and is suitable for use in medical implants.

Use CasesContent extracted from patent full text and abstract with AI.

• Flexible optical fibers for minimally invasive medical devices
• Implantable medical sensors that use light for diagnostics or therapy
• Flexible photonic circuits for biocompatible implants
• Wearable medical monitoring devices requiring flexible light transmission
• Smart medical implants with integrated optical communication

BenefitsContent extracted from patent full text and abstract with AI.

• Enables creation of highly flexible optical waveguides with very small bending radii
• Allows for miniaturization of medical devices using optical components
• Improves patient comfort and device integration due to flexibility
• High precision in manufacturing micro-structured optical components
• Combination of materials offers mechanical robustness and biocompatibility

Technical Classifications (CPCs)

Inventors & Applicants

Patent Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Wellenleiters. Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Herstellung optischer Wellenleiter auf Basis der Materialkombination PMMA/SU8/PMMA zu schaffen, mit dem laterale Periodizitäten von kleiner 50 µm erreichbar sind. Weiterhin soll der optische Wellenleiter eine hohe mechanische Flexibilität aufweisen, wobei Biegeradien von kleiner 1 mm möglich sein sollen. Diese Aufgabe wird mit einem Verfahren mit den folgenden Schritte gelöst,- Ausbildung einer ersten PMMA-Schicht zur Bildung der unteren Mantelschicht (4) des optischen Wellenleiters (1),- Ausbildung einer Schutzschicht (5) auf der ersten PMMA-Schicht,- Auftragen einer SU8-Schicht auf die Schutzschicht (5),- photolithographische Strukturierung der SU8-Schicht durch Belichtung der für die Kernschicht (6, 6a, 6b, 6c) des optischen Wellenleiters (1) vorgesehenen Bereiche der SU8-Schicht und anschließende Entfernung unbelichteter Bereiche der SU8-Schicht mittels für SU8 geeigneter Entwicklerflüssigkeit,- Ausbildung einer zweiten PMMA-Schicht auf nach der photolithographischen Strukturierung freiliegenden Oberflächen der SU8-Schicht und der Schutzschicht (5) zur Bildung der oberen Mantelschicht (7) des optischen Wellenleiters (1), wobei die Schutzschicht (5) gegenüber der Entwicklerflüssigkeit beständig ist und die Schutzschicht (5) innerhalb des optischen Wellenleiters (1) im Wesentlichen optisch inaktiv ist.